佳能绕过EUV光刻机造5nm引领科技革命！或可跨过美国限制！

　　各位小伙伴们，有消息称日本佳能公司已经放了个大招，研发出了一种可以跳过EUV光刻机制造5nm芯片的技术！是真的吗？答案是肯定的！下面就让我带你们一探究竟！佳能公司最近推出了一款名为FPA-1200NZ2C纳米压印设备，这款设备采用了纳米压印技术，直接在晶圆上的抗蚀剂上压印有电路图案的掩模，从而实现了电路图案的真实再现。这一技术的最大亮点在于，它完全跳过了传统的光刻设备，有望帮助日本佳能缩小与行业领先者ASML的差距。那么问题来了，这项技术到底有多厉害呢？目前5nm芯片制造行业主要由ASML主导，而佳能的技术完全跳过了光刻技术，直接将电路图案压印到硅晶圆上。这意味着，我们不再需要EUV光刻机也能制造出5nm及更小芯片！这简直就像给芯片制造行业开了一扇新的大门！不仅如此，这项技术的意义还远不止于此。有报道称，美国禁止向中国出口EUV设备，这是迄今为止制造5nm及更小芯片的唯一可靠方法。然而，佳能的新技术完全绕过了这一限制。这不仅为日本的芯片制造行业带来了新的希望，也为中美竞争增添了一条新战线。看到这里，你是不是已经被这个消息震撼到了？没错，我也被震撼到了！虽然我们不能确定佳能的技术是否能够完全取代EUV光刻机，但是它无疑为芯片制造行业带来了新的可能性。让我们拭目以待，看看佳能的技术将如何改变芯片制造行业！